IT之家 3 月 8 日音讯 上海新阳今天发布布告:发布了最新的 ASML-1400 光刻机有关发展。
经各方活跃洽谈、运作,ASML-1400 光刻机设备于今天已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场所,后续将进行装置调试等相关作业。公司收购的 ASML 干法光刻机设备顺畅交给,对加速 193nmArF 干法光刻胶产品开发进度有活跃影响。
据介绍,上海新阳半导体资料股份有限公司自立项开发 193nmArF 干法光刻胶的研制及产业化项目以来,托付购买了 ASML-1400 光刻机等中心设备,并于今天运抵国内。
▲ 图文无关
官方对该公司的影响及危险提示:
1、公司收购的 ASML 干法光刻机设备顺畅交给,对加速 193nm ArF 干法光刻胶产品开发进度有活跃影响,有利于进一步进步公司光刻胶产品的中心竞争力,加速执行公司发展战略,进步公司抗危险才能和可持续发展才能。
2、该光刻机尚须通过装机、调试等相关环节,若相关环节呈现作业遗漏或失误则存在形成所购买的光刻机投入使用的进程较长乃至无法投入使用的危险。
3、光刻胶研制项目技术壁垒高、周期长、至产业化并终究完成出售赢利仍需必定时刻,而公司购买的光刻机设备价格昂贵,其折旧及后续维护费用估计对公司的运营成绩存在必定影响。
IT之家提示,以下为官方布告:
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